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http://www.panasyslcd.com/news/evolution-of-photoresist-13306395.html
Photoresist의 진화 - 기술 정보 - 뉴스 - PANASYS
반도체 포토 레지스트는 반도체 제품의 소형화 및 기능 다양 화를 위해 시장이 요구하는 바와 같이 집적 회로의 고밀도화를 위해 노출 파장을 줄임으로써 한계 해상도를 지속적으로 향상시킵니다. IC 통합의 향상으로 세계 집적 회로의 공정 수준은 마이크로 미터, 서브 미크론, 딥 서브 미크론 수준에서 나노 단계로 접어 들었다. 집적 회로 선폭 협소화의 요구 사항을 충족시키기 위해 G 라인 (436nm), I (365nm), KrF (248nm), ArF (193
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